Thermal TS-R
Lastra termica positiva per scrittura con laser a 800/850 nm.
Alluminio anodizzato e microgranitura ottenuta con processo elettrochimico
STRUTTURA THERMAL TS-R
Resistenza chimica/meccanica della superficie grazie alla maggiore densità dei polimeri, controllata da una tecnologia unica, brevettata da Huaguang.
